O2 Suiwerheid: ≥99.5%

O2-kapasiteit: 50~10000Nm3/h

N2 Suiwerheid: ≥99.999%

N2 Kapasiteit: 50~30000Nm3/h

Produseer O2 en N2 gelyktydig en afwisselend

O2 Suiwerheid: ≥99.5%

N2 Suiwerheid: ≥99.999%

O2-kapasiteit: 50~10000Nm3/h

N2 Kapasiteit: 50~30000Nm3/h

Argon Suiwerheid: ≥99.9%

Argonkapasiteit: ≥3Nm3/h

Vloeibare suurstof suiwerheid: ≥99.5%

Vloeibare suurstofkapasiteit: ≤300TPD

Vloeibare stikstof suiwerheid: ≥99.999%

Vloeibare stikstofkapasiteit: ≤300TPD

Produseer LOX & LIN gelyktydig en afwisselend

Vloeibare suurstof suiwerheid: ≥99.5%

Vloeibare stikstof suiwerheid: ≥99.999%

LOX/LIN Kapasiteit: ≤300TPD

Produseer LOX & LIN & LAR gelyktydig en afwisselend

Vloeibare suurstof suiwerheid: ≥99.5%

Vloeibare stikstof suiwerheid: ≥99.999%

Vloeibare Argon Suiwerheid: ≥99.999%

LOX/LIN Kapasiteit: ≤300TPD

Vloeibare Argon Kapasiteit: ≤100TPD